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PVD(气相沉积)技术在二十世纪七十年代末，开始应用在提高机械力学性能的硬质膜方面，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。***初在高速刀具领域的成功应用引起了世界各国工具制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。好的设备弧源离化率高，形成的离子密度大，大颗粒少，镀出的膜层光滑度高，磨擦系数小，坚固不脱落，差的设备离化率低，镀出来的膜层粗糙没光泽，容易刮花脱落。PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。

真空镀膜工艺对环境有哪些要求？真空镀膜加工中，真空镀膜工艺衬底（也就是基片）表面清洁处理非常重要。基片进入镀膜室前均应进行认真的镀前清洁处理，达到工件去油、去污和脱水的目的。那么真空镀膜工艺对环境有什么要求呢？

我们知道，基片表面污染一般来自零件在加工、运输以及包装中所粘附的各粉尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物;零件表面在潮湿空气中生成的氧化膜;零件表面吸收和吸附的气体。这些污物基本上均可采用去油或化学清冼方法将其去掉。

溅镀机设备与技能(磁控溅镀)

溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和操控系统构成。溅射源又分为电源和溅射枪磁控溅射枪分为平面型和圆柱型，其间平面型分为矩型和圆型，靶资料利用率30- 40%，圆柱型靶资料利用率gt;50% 溅射电源分为：直流、射频、脉冲， 直流：800-1000V(Max)导体用，须可灾弧。主要产品有：真空镀膜设备、真空电炉设备、真空泵、真空阀门、真空检测设备等140种系列产品，我公司产品遍部***并远销土耳其、澳大利亚、印度、泰国、中国台湾、朝鲜等地。

射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出溅镀时须操控参数有溅射电流，电压或功率，以及溅镀压力(5×10-1—1.0Pa)，若各参数皆安稳，膜厚能够镀膜时刻估量出来。