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涂层的作用和要求：

装饰性真空镀膜的涂层一般分为底涂层和面涂层两种。为了满足产品的不同技术要求，可施涂底涂层和面涂层，或在面涂层上再施涂彩色涂层、保护涂层等。当经过多次镀膜时，真空镀膜室的内衬板还需作定期清洗，一般是半个月清洗一次。这些涂层的主要作用是：提高膜层的结合力。采用相同的镀膜方法，在塑料基体上施涂底涂层再真空镀膜，可提高膜层的结合力。降低镀件表面的粗糙度，提高光亮度。一般镀件表面都存在微观不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填补镀件表面的缺陷，使镀件表面达镜面平整度。

磁控溅射的工作分类：

当前采用磁控溅射法主要是用于制作金属不导电膜，多采用圆柱靶。方法又分为连续镀和间歇镀两种。主要产品有：真空镀膜设备、真空电炉设备、真空泵、真空阀门、真空检测设备等140种系列产品，我公司产品遍部***并远销土耳其、澳大利亚、印度、泰国、中国台湾、朝鲜等地。相对来讲连续式磁控溅射生产线在技术上和实际操作可控性方面已经相当成熟，按照工艺做出来的产品也是相当的***，但机器造价偏高所以市面上投入使用的厂家较少。只有具备充足的资金和业务资源的厂家才会采用这种工艺。

产品相关：真空镀膜机,真空镀膜设备。第查看漏气究竟的虚漏仍是实漏，因为工件资料加热后都会在不一样程度上发生气体，有可能误以为是从外部流进的气体，这就是虚漏，要扫除这种状况。间歇式磁控溅射法:在技术上本身就存在较多的客观的缺陷，又是现目前为止***性的难题。因此这种工艺还只是停留在1200MM以下的小型设备和高附加值的产品上，在产能和质量方面将无法与采用其他工艺的同行进行竞争。

真空镀膜设备多弧离子镀膜上的创新方法，所谓多弧离子镀膜就是置待镀材料和被镀基板于室内，真空镀膜机多弧离子镀膜采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。在真空镀膜技术还未出现的时候，用的是化学电镀技术，此种技术污染太大，科研学者一直希望研发能代替的镀膜技术。多弧离子镀膜的方法，在条件下成膜有很多优点，可减少蒸发材料的原子、分子在飞向基板过程中于分子的碰撞，减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应（如氧化等），以及减少成膜过程中气体分子进入薄膜中成为杂质的量，从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与基板的附着力。