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国内外实践证明，大功率电子枪是钢带真空镀膜工艺的理想热源。而且真空镀膜机用途非常广泛，涉及到装饰品、玻璃等行业。

装饰品上真空镀膜机用途：我们日常生活中，装饰品很多，不论是手上带的，身上穿的，屋里摆的，车上挂的，眼睛看的，包装用的，总之装饰就是为了美观，而很多产品需要达到特定的外观效果无疑要进行表面处理，使用真空镀膜机进行表面镀膜改变产品外观成为必然。A3:离子镀膜（PVD镀膜）技术，其原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离，在电场的作用下，使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

据调查显示，对于沉积速率，真空镀膜机技术中的磁控溅射镀膜运用效果很好。有项研究就是对平衡磁控溅射镀膜和非平衡磁控溅射镀膜进行各种对比。在这两者之前，对其成膜的沉积速率的不同作出了实验研究。

在实验中，通过是平衡磁控溅射的基础上增加附加的线圈来控制磁场的变化，形成非平衡磁控溅射条件，这种附加线圈可以改变磁场电流，调整在整个靶材表面所存在的磁场状况，从而使其产生的离子密度更高，在研究数据中显示，当离子密度提高，成膜的沉积速率也相应提高，通过这种调整电流的方式，可以提高磁控溅射镀膜时的沉积速率。有些产品在镀膜的时候如果暴露在空气中，会与空气中的气体和尘埃发生反应，但使用真空镀膜就能避免这些问题。

溅镀机设备与技能(磁控溅镀)

溅镀机由真空室，排气系统，溅射源和操控系统构成。溅射源又分为电源和溅射枪磁控溅射枪分为平面型和圆柱型，其间平面型分为矩型和圆型，靶资料利用率30- 40%，圆柱型靶资料利用率gt;50% 溅射电源分为：直流、射频、脉冲， 直流：800-1000V(Max)导体用，须可灾弧。A6:采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长。

射频：13.56MHZ，非导体用。脉冲：泛用，新发展出溅镀时须操控参数有溅射电流，电压或功率，以及溅镀压力(5×10-1—1.0Pa)，若各参数皆安稳，膜厚能够镀膜时刻估量出来。