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PVD(气相沉积)技术在二十世纪七十年代末，开始应用在提高机械力学性能的硬质膜方面，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。***初在高速刀具领域的成功应用引起了世界各国工具制造业的高度重视，人们在开发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金、刀具中进行了更加深入的涂层应用研究。断定检查仪器的小可检漏率和检漏灵敏性，以很大规模的检查出漏气状况，防止一些漏孔被疏忽，进步检漏的准确性。PVD工艺对环境无不利影响，符合现代绿色制造的发展方向。

真空镀膜机一般泛指气相堆积技能；镀膜机则包含气相堆积和化学气相堆积，以及化学等离子气相堆积，范围比较广。冷水机依据冷凝器的不一样，有风冷式冷水机和水冷式冷水机。依据温度的不一样，有低温冷水机（零下50度以内都可），螺杆式冷冻机，大型冷冻机组等。工作前，要确保电弧蒸发源发源安装正确，绝缘良好，引弧针控制灵活,程合适，恰好能触及阴极表面。镀膜冷水机，需求留意依据客户请求的水压来给客户挑选冷水机类型，有激光镀膜冷水机，真空镀膜冷冻机，镀膜机专用冷水机。

磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点：利用磁场与电子交互作用，使电子在靶表面附近成螺旋状运行，从而增大电子撞击***气产生离子的概率。离子镀膜把辉光放电现象，等离子体技术以及真空蒸发三者有机结合起来，不但可以明显的改进膜质量，而且还扩大了薄膜的应用范围。所产生的离子在电场作用下撞向靶面从而溅射出靶材。在近几十年的发展中，大家逐渐采用***磁铁，很少用线圈磁铁。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。