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真空镀膜机厂家对镀件的离子清洗特点磁控溅射的工作分类：真空镀膜机厂家对镀件的离子清洗不分处理对象的，对任何镀件材料都可以进行处理。如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。

产品相关：真空镀膜设备,真空电镀设备，它是采用自动化程度高的数控技术，而且不会在表面产生损伤层，保证***终产品的质量，由于环境在是真空中，因此不会存在二次污染。

随着人们思想的改变，对于大众化产品已经缺乏追求，转向特色产品显示出自身的鹤立鸡群，特色镀膜设备走入了每个行业每个镀膜企业。以往的镀膜设备由于排放***太多造成污染环境等问题，一直受到人们的排斥，真空镀膜设备的出现，利用真空技术进行PVD物理镀膜，改变了人们对镀膜设备的看法。A2:PVD技术主要分为三类，真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。镀膜设备与真空技术的结合，真正让镀膜行业污染严重的现象得到了巨大改善，保护了周围环境的安全清洁。

靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源镀膜均匀，非平衡式靶源镀膜膜层和基体结合力强。平衡靶源多用于半导体光学膜，非平衡多用于磨损装饰膜。不管平衡非平衡，若磁铁静止，其磁场特性决定一般靶材利用率小于30%。为增大靶材利用率，可采用旋转磁场。但旋转磁场需要旋转机构，同时溅射速率要减小。旋转磁场多用于大型或贵重靶。真空与镀膜结合改变了以往的镀膜工艺，转变了镀膜技术，实现自动化镀膜功能，特别智能化，也便于维护，一个按键就能完成自动开关机生产，减少了人力资源成本。如半导体膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，多用磁场静止靶源。