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PVD气相沉积：指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能（强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等）的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能。

装饰件材料（底材）金属：不锈钢、钢基合金、锌基合金等。玻璃、陶瓷。塑料：abs、pvc、pc、尼龙等。柔性材料：涤纶膜、pc、纸张、布、泡沫塑料、钢带等。

真空镀膜设备离子镀膜上的创新方法 真空镀膜设备多弧离子镀膜上的创新方法，所谓多弧离子镀膜就是置待镀材料和被镀基板于室内，真空镀膜机多弧离子镀膜采用一定方法加热待镀材料，使之蒸发或升华，并飞行溅射到被镀基板表面凝聚成膜的工艺。 真空镀膜设备多弧离子镀膜工艺不仅避免了传统表面处理的不足，镀膜设备厂商，且各项技术指标都优于传统工艺，在五金、机械、化工、模具、电子、仪器等领域有广泛应用。

溅镀，一般指的是磁控溅镀，归于高速低温溅镀法.

该技能请求真空度在1×10-3Torr摆布，即1.3×10-3Pa的真空状况充入慵懒气体，岳阳镀膜设备，并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电，因为辉光放电发生的电子激起慵懒气体，真空镀膜设备厂，发生等离子体，等离子体将金属靶材的原子轰出，堆积在塑胶基材上.以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子炮击资料外表，镀膜设备厂家，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额产额越高溅射速度越快。一般在0.1-10原子/离子。离子能够直流辉光放电发生，在10-1—10 Pa真空度，在两极间加高压发生放电，正离子会炮击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。